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地标激光灯的光绘原理是怎样的
专栏:行业新闻
发布日期:2019-05-20
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作者:其他
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地标激光灯光绘机采用激光做光源,有容易聚焦、能量集中等优点,对瞬间快速的底片曝光非常有利,绘制的底片边缘整齐、反差大、不虚光。由于此斜反射镜的高速旋转,反射至底片上的光点形成连续线条。

地标激光灯光绘机采用激光做光源,有容易聚焦、能量集中等优点,对瞬间快速的底片曝光非常有利,绘制的底片边缘整齐、反差大、不虚光。曝光采用扫描式,无论密度多大,均能在最短时间内完成曝光,绘制一张底片只需几分钟。因此成为当今光绘行业的主流。 


地标激光灯光绘机的光源多采用气体激光器,如氩、氦和氖等。气体激光器的光源强度大但寿命却有限,约6000~10000h,因此使用一年多就需要更换光源。现在一些光绘机生产厂家采用了半导体激光器作为光源,但较大功率的半导体激光器的生产还不很成熟。

按照地标激光灯光绘机的结构,可以分为内圆筒式(InternalDrum)和外滚筒式(ExternalDrum)。 

(1)内圆筒式地标激光灯光绘机以美国Gerber公司开发crescent系列地标激光灯光绘机为代表底片由真空吸附在一圆桶状内壁上。氩氢激光器发射的蓝色激光,经电子快门及光束强化器的光点选择口后,再由两块45。反射镜反射至高速自转(200r/s)的斜置反射镜上,再反射到底片上。由于此斜反射镜的高速旋转,反射至底片上的光点形成连续线条。反射镜在作高速旋转的同时,随其基座“自转镜头”(SpinningMiiror),以12cm/mln的速度做左右横向移动。所以,每条光线之间的间距只有10btm,形成带状扫描曝光。同时,此激光光线在每秒钟两亿次的电子快门控制下,进行开启与闭合的动作,完成阴图与阳图的曝光。 内圆筒式地标激光灯光绘机绘制的底片,可以达到很高的解析度(1/4-mil),绘制一张2zlin×30in的底片只需5min。但内圆筒式地标激光灯光绘机由于自转镜头旋转速度极高(12000r/rain),采用了气浮轴承,所以价格昂贵、维修困难、不易得到普及。 

(2)外滚筒式地标激光灯光绘机以以色列奥宝科技公司生产的I.P5008系列地标激光灯光绘机为代表 此种地标激光灯光绘机是用强力真空泵将底片吸附在圆形滚筒外侧,滚筒以500r/rain的速度快速旋转。为使底片牢固吸附在滚筒上,滚筒转速1500r/min已经不能再作提高,否则底片将在高速旋转时被甩出。所以,外滚筒式地标激光灯光绘机的旋转速度和内滚筒式地标激光灯光绘机12000r/mln的转速相比相差很多,扫描曝光速度就会相应降低。(来源网络)


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